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PRODUCT

XQP系列吸氫劑


    特征和用途

    本品是組織結構優化的鈦合金,在不需要激活過程的情況下,可以從室溫到400℃從環境中選擇性的直接吸收氫氣,并使之擴散進入金屬的內部,即使環境中有其他氣體存在。具有氫分壓低、不會產生水、也不會釋放有機氣體,無顆粒脫落,易于裝配等特點。可廣泛的應用于對氫敏感的各種密封器件,特別是砷化鎵微電子器件、光模塊。

    基本特性和一般數據

    ●結構
    薄片狀金屬,尺寸形狀可以根據用戶需要定制。也可以薄膜形式沉積在各種蓋板或陶瓷外殼內部。
    ●吸氣能力

    吸氫速率 ??Sorption Speed(100℃,1000Pa) ???????????????????????????????????????

    ≥0.4 ??Pa×L/min·cm2

    吸氫容量 ??Sorption Capacity

    ≥10 ???ml/cm2

    注:薄膜型產品的(de)吸氫容量與(yu)厚度有(you)關(guan)

     

    推薦激活條件

    無需激活

    注意事項

    裝配(pei)時避免表(biao)(biao)面(mian)的膜層產(chan)生劃(hua)痕。產(chan)品的吸(xi)(xi)氫(qing)(qing)速度(du)(du)隨著溫度(du)(du)升(sheng)高(gao)(gao)而增大,但(dan)最高(gao)(gao)工作(zuo)溫度(du)(du)不應超(chao)(chao)過(guo)400℃。工作(zuo)溫度(du)(du)超(chao)(chao)過(guo)350℃后,吸(xi)(xi)氫(qing)(qing)容(rong)量會顯(xian)著降低(di)。吸(xi)(xi)氫(qing)(qing)量超(chao)(chao)過(guo)安(an)全(quan)吸(xi)(xi)氫(qing)(qing)容(rong)量后,表(biao)(biao)面(mian)會變(bian)形

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